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저스템
417840당사는 2016년 설립되어 반도체 및 디스플레이 관련 N₂ Purge 시스템, LPM 등 반도체 제조 공정 장비를 개발·생산하며, 2024년부터 2세대, 2026년부터 3세대 신제품을 시장에 선보이고 있습니다. 주요 사업은 반도체 수율 향상을 위한 N₂ Purge 시스템, LPM, 증착기, 물류장비 등이며, 종속기업 플람은 플라즈마 기술을 활용한 반도체·디스플레이·태양광 장비를 개발하고 있습니다.
저스템, 반도체 선단공정 및 HBM 전환에 따른 수혜 전망
저스템은 반도체 제조공정의 FOUP과 EFEM 구간에서 습도와 분자오염을 제어하는 질소 퍼지 기반 솔루션을 전문적으로 공급하고 있습니다. 최근 반도체 업계의 신규 팹 투자 확대와 기존 생산라인 내 제품 적용 범위 확장에 따라 직접적인 수혜가 예상됩니다. 특히 HBM 및 선단공정 전환 가속화가 기업의 매출 성장과 경쟁력 강화의 핵심 동력이 될 것으로 분석됩니다.
저스템, 2세대 수율 개선 솔루션 JFS 확산 및 내년 영업이익 500억 원 전망
저스템이 삼성전자와 마이크론을 중심으로 2세대 수율 개선 솔루션인 JFS 공급을 확대하고 있다. 해당 솔루션은 반도체 제조공정 중 FOUP와 EFEM 구간의 습도 및 분자오염을 제어하는 N2 Purge 기술을 통해 수율을 높이는 것이 특징이다. 이를 통해 내년 영업이익은 약 500억 원 규모를 기록하며 본격적인 성장 단계에 진입할 것으로 보인다.
저스템, 상반기 영업이익 134억원 달성 및 JFS 공급 본격화
반도체 습도제어 솔루션 전문 기업 저스템이 올해 상반기 연결기준 매출액 460억원과 영업이익 134억원을 달성하며 가파른 실적 성장세를 기록했다. 이번 성과는 신제품 JFS 공급이 본궤도에 오르며 매출 기여도가 높아진 결과로 분석된다. 반도체 공정 미세화 추세에 따른 습도제어 솔루션 수요 증가가 실적 개선을 이끌었으며, 향후 공급 확대에 따른 추가 성장이 기대된다.